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时间 1989 - 2010 学科选择学科
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18篇 您的检索式：作者名="Ibl N"
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1Influence of charge and discharge of electric double layer in pulse plating 显示文摘Puippe J C Ibl N 1980J Appl Electro- chem1980，10，6：1
2Some theoretical aspects of pulse electrolysis显示文摘IBL N 1980Surface Technology1980，10，：1
3Some Theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘Ibl N 1980Surface Technology1980，，10：1
4Some theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘N IBL 1980Surface Technology1980，10，2：1
5Influence of charge and discharge of electric double layer in pulse plating 显示文摘PUIPPE J C IBL N 1980Journal of Applied Electrochemistry1980，10，6：1
6Electro-crystallization in pulse electrolysis 显示文摘IBL N PUIPPE J C ANGERER H 1978Surface Technology1978，6，4：1
7Influence of charge and discharge of electric double layer in pulse plating 显示文摘PUIPPE J CL IBL N 1980Journal of Applied Electrochemistry1980，10，6：1
8On the electrodeposition of hard gold 显示文摘Angerer H Ibl N 1979Journal of Applied Electrochemistry1979，9，2：1
9Some Theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘Ibl N 1980Surface Technology1980，10，2：1
10Some theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘IBL N 1980Surface Technology1980，10，2：1
11Some Theoretical Aspects of Pulse Electrolysis 显示文摘N IBL 1980Surface Technology1980，10，2：1
12Influence of charge and discharge of electric double layer in pulse plating 显示文摘Puippe J Cl Ibl N 1980Journal of Applied Electrochemistry1980，10，6：1
13Some theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘Ibl N 1980Surface Technology1980，10，2：1
14Some theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘Ibl N Zurich 1980Surface Technology1980，10，：1
15Limited cleavage of tau with matrix-metalloproteinase MMP-9, but not MMP-3, enhances tau oligomer formation显示文摘N~ibling G Levin J Bader B 2012Exp Neurol2012，237，2：1
16The morphology of pulse-plated deposits 显示文摘Puippe J C Ibl N 1980Plating and Surface Finishing1980，68，：1
17Some theoretical aspects of pulse electrolysis 显示文摘Ibl N 1980Surface Technology1980，10，2：1
18On the Conductivity and Void Fraction of Gas Dispersions in Electrolyte Solutions显示文摘Sigrist L Dossenbach O Ibl N 1980Journal of Applied Electrochemistry1980，10，2：1
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